精密蝕刻（etching）是將材料使用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術。精密蝕刻技術可以分為濕精密蝕刻（wet etching）和干精密蝕刻（dry etching）兩類。

  早可用來制造銅版、鋅版等印刷凹凸版，也被使用于減輕重量(Weight Reduction)儀器鑲板，銘牌及傳統(tǒng)加工法難以加工之薄形工件等的加工;經過不斷改良和工藝設備發(fā)展，亦可以用于航空、機械、化學工業(yè)中電子薄片零件精密精密蝕刻產品的加工，特別在半導體制程上，精密蝕刻更是不可或缺的技術。

  通常所指精密蝕刻也稱光化學精密蝕刻(photochemical etching)，指通過曝光制版、顯影后，將要精密蝕刻區(qū)域的保護膜清去，在精密蝕刻時接觸化學溶液，達到溶解腐蝕的作用，形成凹凸或者鏤空成型的效果。

  曝光法：工程根據圖形開出備料尺寸-材料準備-材料清洗-烘干→貼膜或涂布→烘干→曝光→ 顯影→烘干-精密蝕刻→脫膜→OK

  網印法：開料→清洗板材(不銹鋼其它金屬材料)→絲網印→精密蝕刻→脫膜→OK

  精密蝕刻優(yōu)版： 采用噴墨打印技術將墨水打印到材料表面，再經過固化(一般是用光固化也有用熱固化)即可獲得層然后可以進行下一步化學腐蝕或者電腐蝕。